amstaffkomanda – Kalau kamu sering mengikuti perkembangan dunia teknologi, pasti pernah mendengar istilah EUV (Extreme Ultraviolet). Teknologi ini sering disebut sebagai salah satu alasan mengapa prosesor smartphone, laptop, hingga chip AI terbaru bisa dibuat semakin kecil tetapi memiliki performa yang jauh lebih tinggi.
Banyak orang kemudian bertanya, siapa sebenarnya penemu teknologi UV pembuat chip? Jawabannya ternyata tidak sesederhana menyebut satu nama.
Teknologi litografi ultraviolet merupakan hasil riset yang berlangsung selama puluhan tahun dan melibatkan ratusan ilmuwan, lembaga penelitian, universitas, hingga perusahaan teknologi dari berbagai negara. Berbeda dengan penemuan seperti lampu pijar atau telepon yang identik dengan satu tokoh, teknologi UV dalam industri semikonduktor berkembang secara bertahap melalui kolaborasi lintas disiplin.
Saat ini, teknologi tersebut menjadi fondasi utama industri chip global. Perusahaan seperti TSMC, Samsung, dan Intel mengandalkan mesin litografi berbasis ultraviolet untuk memproduksi miliaran transistor pada sebuah chip berukuran hanya beberapa sentimeter.
Apa Itu Teknologi Extreme Ultraviolet dalam Pembuatan Chip?
Dalam industri semikonduktor, UV merupakan singkatan dari Ultraviolet, yaitu cahaya dengan panjang gelombang lebih pendek dibandingkan cahaya tampak.
Cahaya ultraviolet dimanfaatkan dalam proses yang disebut photolithography atau litografi. Proses ini bekerja layaknya mesin pencetak super presisi yang memindahkan pola rangkaian elektronik ke permukaan wafer silikon.
Bayangkan seperti membuat stempel pada selembar kertas. Bedanya, pola yang dicetak pada chip memiliki ukuran hanya beberapa nanometer atau bahkan lebih kecil dari virus tertentu. Karena ukurannya sangat kecil, dibutuhkan cahaya dengan panjang gelombang yang sangat pendek agar pola tersebut dapat dibuat secara akurat.
Semakin pendek panjang gelombangnya, semakin kecil pula detail yang dapat dicetak pada wafer silikon.
Dari UV ke EUV, Evolusi Teknologi Litografi
Pada awal perkembangan industri semikonduktor, proses litografi masih menggunakan cahaya tampak. Namun seiring kebutuhan transistor yang semakin kecil, industri mulai beralih ke Deep Ultraviolet (DUV) dengan panjang gelombang sekitar 248 nanometer, kemudian berkembang menjadi 193 nanometer menggunakan laser argon fluoride.
Teknologi DUV memungkinkan produksi chip modern selama bertahun-tahun. Namun ketika industri mulai memasuki proses fabrikasi 7 nanometer dan lebih kecil, DUV menghadapi keterbatasan teknis.
Solusinya adalah Extreme Ultraviolet (EUV) yang menggunakan panjang gelombang sekitar 13,5 nanometer. Karena panjang gelombangnya jauh lebih pendek, EUV mampu mencetak pola transistor yang jauh lebih rapat tanpa memerlukan terlalu banyak proses berulang.
Inilah yang memungkinkan chip modern memiliki miliaran transistor dalam ukuran yang tetap ringkas.
Siapa Penemu Teknologi UV untuk Membuat Chip?
Jawaban singkatnya adalah tidak ada satu penemu tunggal.
Teknologi litografi ultraviolet merupakan hasil pengembangan bersama selama beberapa dekade. Namun ada sejumlah tokoh dan lembaga yang memberikan kontribusi sangat besar terhadap lahirnya teknologi ini.
Salah satu nama yang sering disebut adalah Hiroo Kinoshita, profesor dari Jepang yang menjadi salah satu pelopor penelitian litografi EUV sejak akhir 1980-an. Penelitiannya membantu membuktikan bahwa cahaya extreme ultraviolet memiliki potensi besar untuk mencetak pola semikonduktor generasi berikutnya.
Selain itu, Bell Labs, Lawrence Livermore National Laboratory, Sandia National Laboratories, serta berbagai universitas di Amerika Serikat juga berperan dalam penelitian awal mengenai sumber cahaya EUV, sistem optik, hingga material yang mampu bekerja pada panjang gelombang ekstrem tersebut.
Teknologi ini kemudian dikembangkan lebih lanjut melalui kolaborasi internasional yang melibatkan perusahaan-perusahaan besar di industri semikonduktor.
ASML, Perusahaan yang Membawa EUV ke Industri
Kalau berbicara mengenai mesin EUV modern, hampir semua jalan akan mengarah pada satu nama, yaitu ASML.
Perusahaan asal Belanda ini bukan penemu konsep dasar EUV, tetapi menjadi perusahaan pertama yang berhasil mengubah teknologi tersebut menjadi mesin produksi yang dapat digunakan secara massal oleh pabrik semikonduktor.
Pengembangan mesin EUV membutuhkan waktu lebih dari dua dekade dengan investasi miliaran dolar Amerika Serikat.
Keberhasilan ASML juga tidak lepas dari kerja sama dengan banyak perusahaan lain. Misalnya Zeiss dari Jerman yang mengembangkan sistem cermin ultra-presisi, Cymer dari Amerika Serikat yang mengembangkan sumber cahaya laser, serta berbagai pemasok komponen berteknologi tinggi dari berbagai negara.
Saat ini, mesin EUV ASML menjadi salah satu alat manufaktur paling kompleks yang pernah dibuat manusia.
Kenapa EUV Tidak Menggunakan Lensa Biasa?
Salah satu fakta menarik dari teknologi EUV adalah cahaya dengan panjang gelombang 13,5 nanometer hampir sepenuhnya diserap oleh kaca.
Artinya, lensa optik biasa tidak bisa digunakan.
Sebagai gantinya, mesin EUV menggunakan serangkaian cermin khusus dengan tingkat presisi luar biasa. Permukaan cermin tersebut harus dibuat hampir sempurna. Bahkan jika terdapat tonjolan sekecil beberapa atom saja, kualitas pencetakan chip dapat terganggu.
Karena alasan itulah harga satu mesin EUV bisa mencapai lebih dari US$200 juta, menjadikannya salah satu mesin industri termahal di dunia.
Kenapa Teknologi EUV Sangat Penting?
Perkembangan kecerdasan buatan, komputasi awan, kendaraan listrik, hingga smartphone modern membutuhkan chip yang semakin cepat dan hemat daya.
Teknologi EUV memungkinkan produsen menempatkan lebih banyak transistor pada area yang sama sehingga meningkatkan performa sekaligus mengurangi konsumsi energi.
Tanpa kemajuan litografi EUV, perkembangan prosesor modern kemungkinan akan berlangsung jauh lebih lambat karena keterbatasan teknologi pencetakan transistor.
Fakta Menarik tentang Teknologi UV untuk Chip
| Fakta | Keterangan |
|---|---|
| Panjang gelombang DUV | Sekitar 193 nm |
| Panjang gelombang EUV | Sekitar 13,5 nm |
| Produsen mesin EUV utama | ASML (Belanda) |
| Pengguna utama | TSMC, Samsung, Intel |
| Harga mesin EUV | Lebih dari US$200 juta per unit |
| Fungsi utama | Mencetak pola transistor pada wafer silikon |
Industri Chip Modern Tidak Dibangun oleh Satu Orang
Kalau ditanya siapa penemu teknologi UV pembuat chip, jawaban paling tepat adalah bahwa teknologi ini merupakan hasil kolaborasi ilmiah global.
Konsep litografi ultraviolet berkembang melalui kontribusi banyak ilmuwan sejak puluhan tahun lalu. Penelitian akademis, laboratorium pemerintah, dan perusahaan teknologi saling melengkapi hingga akhirnya melahirkan mesin Extreme Ultraviolet yang digunakan saat ini.
ASML memang menjadi perusahaan yang paling identik dengan teknologi Extreme Ultraviolet modern, tetapi keberhasilannya tidak lepas dari inovasi ribuan insinyur dan ilmuwan dari berbagai negara.
Teknologi inilah yang kini menjadi tulang punggung industri semikonduktor dunia dan memungkinkan lahirnya berbagai perangkat canggih yang digunakan miliaran orang setiap hari.
Referensi
ASML – How Extreme Ultraviolet Lithography Works
https://www.asml.com/en/technology/all-about-euv-lithography
ASML – Technology Extreme Ultraviolet Explained
https://www.asml.com
SPIE Digital Library – Extreme Ultraviolet Lithography Research
https://spie.org
Nature Electronics – Semiconductor Manufacturing
https://www.nature.com/natelectron
IEEE Spectrum – Extreme Ultraviolet Lithography
https://spectrum.ieee.org
Encyclopaedia Britannica – Semiconductor Device
https://www.britannica.com/technology/semiconductor-device






